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描述：薄膜生長(cháng)速率測試儀，采用無(wú)損的激光技術(shù)實(shí)時(shí)原位檢測薄膜沉積速率、薄膜厚度以及光學(xué)常量（n&k），可廣泛的應用于金屬有機化學(xué)氣象沉積MOCVD、分子束外延MBE、濺射系統Sputtering和蒸發(fā)系統等薄膜沉積過(guò)程的實(shí)時(shí)原位監控。
| 品牌 | 其他品牌 | 產(chǎn)地類(lèi)別 | 進(jìn)口 |
|---|---|---|---|
| 應用領(lǐng)域 | 環(huán)保,化工,生物產(chǎn)業(yè),能源,電子 |
主要特點(diǎn)：
*實(shí)時(shí)薄膜沉積速率、薄膜厚度和光學(xué)常數（n&k）分析，同時(shí)標準偏差統計分析；
*自動(dòng)程序化校準；
*實(shí)時(shí)反饋系統；
*程序控制，可實(shí)時(shí)多層薄膜沉積監控和控制；
*多Wafer監控功能；
*Wafer基底旋轉監控和控制功能；
*所有參量原位實(shí)時(shí)檢測；
*操作裝配簡(jiǎn)單便捷；
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