隨著(zhù)科技的進(jìn)步和發(fā)展，人們從理論和實(shí)驗研究中發(fā)現，當許多材料被加工為具有納米尺度范圍的形狀時(shí)，會(huì )呈現出與大塊材料完*不同的性質(zhì)。這些特異的性質(zhì)向人們展現了令人興奮的應用前景。在開(kāi)發(fā)超大規模集成電路工藝技術(shù)的過(guò)程中，如電子束與X射線(xiàn)曝光，聚焦離子束加工技術(shù)等。但這些技術(shù)的缺點(diǎn)是設備昂貴，產(chǎn)量低，因而產(chǎn)品價(jià)格高昂。商用產(chǎn)品的生產(chǎn)必須是廉價(jià)的、操作簡(jiǎn)便的，可工業(yè)化批量生產(chǎn)的、高重復性的；對于納米尺度的產(chǎn)品，還必須是能夠保持它所*有的圖形的精確度與分辯率。
納米壓印系統可以實(shí)現微米和納米尺度圖形結構的復制加工，采用單面氣壓方式，有力保證了壓印的均勻性，減少碎片的發(fā)生。中間聚合物轉印則可以較大程度保護原始模具，延長(cháng)使用壽命。
納米壓印系統是基于其機械壓印原理，將具有納米級尺寸圖案的模板在機械力的作用下壓到涂有高分子材料的襯底上，進(jìn)行等比例壓印復制圖案的工藝。其實(shí)質(zhì)就是液態(tài)聚合物對模板結構腔體的填充過(guò)程和固化后聚合物的脫模過(guò)程。其加工分辨力只與模版圖案的特征尺寸有關(guān)，而不受光學(xué)光刻的*短曝光波長(cháng)的物理限制。具有避免使用昂貴的光源及投影光學(xué)系統，不受光學(xué)光刻的*短曝光波長(cháng)的物理限制和工藝簡(jiǎn)便等特點(diǎn)，其高精度、高分辨率、廉價(jià)的特點(diǎn)使其很可能成為下一代重要的光刻技術(shù)，一種重要的微納米復制技術(shù)。
